Technologien
Auftragen von Pulverbeschichtungen bei einer Erwärmungstemperatur des Produkts von weniger als 100 °C unter Verwendung eines quasi-laminaren Mikroplasmastrahls mit hoher Enthalpie.
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Aufbringen von funktionellen Beschichtungen durch gepulste Plasma-Funkenentladungen in Luft mit periodischem Kontakt der Elektrode mit dem Werkstück, wodurch das verbrauchbare Material der Elektrode übertragen und auf der Oberfläche des Werkstücks abgelagert wird.
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PACVD-CAPP - chemische Abscheidung aus der Dampfphase mit Plasmaaktivierung bei Atmosphärendruck
Ein vakuum- und kammerloses Verfahren zur plasmachemischen Beschichtung aus der Gasphase mit gleichzeitiger Plasmaaktivierung des Gasstroms und der Oberfläche, auf die die Beschichtung abgelagert wird. Das Verfahren wird bei einer integralen Erwärmungstemperatur der Teile von 50-150 ºC durchgeführt, ohne dass sich die Ausgangsrauheit ändert.
Entfernung von adsorbierten Gasen, Feuchtigkeit, Staubpartikeln, organischen und biologischen Verunreinigungen von der Oberfläche der Werkstücke sowie Verleihung der chemischen Aktivität der Oberfläche durch die Einwirkung von Atmosphärendruckplasma - hochenergetisches ionisiertes Gas.
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Zerstörung von Bakterien, Viren, Pilzen, Krankheitserregern, Sporen, Prionen, Toxinen und organischen Verunreinigungen auf verschiedenen Oberflächen (einschließlich lebendem Gewebe und offenen Wunden) durch atmosphärisches Plasma.
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