PACVD-CAPP - chemische Abscheidung aus der Dampfphase

Ein vakuum- und kammerloses Verfahren zur plasmachemischen Beschichtung aus der Gasphase mit gleichzeitiger Plasmaaktivierung des Gasstroms und der Oberfläche, auf die die Beschichtung abgelagert wird. Das Verfahren wird bei einer integralen Erwärmungstemperatur der Teile von 50-150 ºC durchgeführt, ohne dass sich die Ausgangsrauheit ändert.