PАCVD por plasma frío a presión atmosférica
Proceso sin vacío ni celdas de deposición de recubrimiento químico por plasma a chorro a partir de la fase gaseosa seguido de la activación por plasma del flujo de gas y de la superficie sobre la que se deposita el recubrimiento. El proceso se lleva a cabo a una temperatura de calentamiento de la pieza integral de 50-150°C sin que se produzcan cambios en su rugosidad inicial.
